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突破介質(zhì)漿料分散瓶頸！中毅三輥機(jī)助力介質(zhì)漿料實(shí)現(xiàn)12μm超細(xì)分散
發(fā)布時(shí)間：
2025-06-21
在電子元器件制造領(lǐng)域，介質(zhì)漿料的分散細(xì)度直接決定產(chǎn)品性能。隨著5G通信設(shè)備對(duì)高頻介質(zhì)基板的需求激增，很多企業(yè)在開(kāi)發(fā)新型高頻介質(zhì)漿料時(shí)遭遇技術(shù)瓶頸。傳統(tǒng)分散設(shè)備始終無(wú)法將漿料細(xì)度控制在15μm以下，嚴(yán)重影響產(chǎn)品的介電損耗和信號(hào)傳輸穩(wěn)定性。本文將揭秘中毅三輥機(jī)如何通過(guò)創(chuàng)新技術(shù)攻克這一行業(yè)難題。
介質(zhì)漿料是電子漿料的一種，按功能分為電阻漿料、導(dǎo)體漿料和介質(zhì)漿料，由玻璃粉、顏料和有機(jī)載體混合而成的膏狀物。介質(zhì)漿料作為多層陶瓷電容器、LTCC基板等核心元件的關(guān)鍵材料，其分散質(zhì)量直接影響：
① 高頻介電損耗（細(xì)度每降低5μm，損耗值可優(yōu)化15%）
② 流延成型均勻性
③ 燒結(jié)致密化程度
傳統(tǒng)設(shè)備因剪切力不足、溫升過(guò)高等問(wèn)題，在50μm初始細(xì)度的基礎(chǔ)上始終無(wú)法突破15μm技術(shù)紅線。
山東某高端電子材料企業(yè)在研發(fā)高性能介質(zhì)漿料過(guò)程中，面臨關(guān)鍵性技術(shù)挑戰(zhàn)——需將漿料粒徑嚴(yán)格控制在15μm以下技術(shù)指標(biāo)。傳統(tǒng)分散設(shè)備因剪切力不足和溫控精度有限，多次工藝驗(yàn)證均未能突破這一技術(shù)瓶頸。
針對(duì)這一難題，我們使用ZYTR-80E Plus 三輥研磨機(jī)來(lái)分散介質(zhì)漿料。該設(shè)備通過(guò)三組高精度氧化鋯輥筒的轉(zhuǎn)速差（1：3：9）和微米級(jí)間隙控制（精度：1μm），產(chǎn)生可控的層流剪切場(chǎng)，實(shí)現(xiàn)團(tuán)聚體的精準(zhǔn)解聚和單分散體系的構(gòu)建，完美保持材料的本征形貌特性。
介質(zhì)漿料的分散方案
客戶名稱：山東某電子公司
實(shí)驗(yàn)材料：介質(zhì)漿料
實(shí)驗(yàn)設(shè)備：ZYTR-80E Plus 三輥機(jī)+刮板細(xì)度計(jì)
實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?/strong>通過(guò)三輥機(jī)研磨使材料分散的更加均勻并將細(xì)度降至15μm以下
實(shí)驗(yàn)步驟
1、初始檢測(cè)
取少量材料使用刮板細(xì)度計(jì)進(jìn)行初始細(xì)度檢測(cè)，刮板細(xì)度計(jì)顯示50μm以下，如下圖所示：
2、三級(jí)分散工藝
使用ZYTR-80E Plus 三輥機(jī)通過(guò)三級(jí)分散工藝進(jìn)行漿料的分散和均質(zhì)，確保粒徑穩(wěn)定控制在 15μm 以下，并顯著提升漿料的光澤度與流變性能。
① 粗輥階段：輥距50-25μm
② 二次精磨：輥距30-15μm
③ 終極均質(zhì)：輥距10-5μm
三輥機(jī)運(yùn)行過(guò)程中出料均勻無(wú)漏料，如下圖所示：
介質(zhì)漿料研磨前后效果
3、出料檢測(cè)
取少量研磨后的材料再使用刮板細(xì)度計(jì)進(jìn)行檢測(cè)，刮板細(xì)度12μm，如下圖所示：
4、結(jié)果分析
使用中毅科技的ZYTR-80E Plus 三輥機(jī)，對(duì)比刮板細(xì)度計(jì)結(jié)果可以看出：
1、細(xì)度突破：從初始50μm降至12μm，降幅達(dá)76%。
2、工藝優(yōu)勢(shì)：
① 間隙直觀可量化，便于后續(xù)工藝直接轉(zhuǎn)量產(chǎn)，徹底解決傳統(tǒng)工藝"小試可行，放大失效"的行業(yè)痛點(diǎn)。
② 良品率大大提升。
目前，該技術(shù)突破已成功應(yīng)用于：
① 5G基站介質(zhì)濾波器漿料（介電常數(shù)一致性提升至±0.15）
② 毫米波雷達(dá)基板材料（介電損耗降至0.0008@28GHz）
③ 高密度集成電路封裝介質(zhì)（線寬精度突破10μm級(jí)）
中毅的三輥機(jī)正持續(xù)賦能電子漿料領(lǐng)域，并已全面覆蓋膠粘劑、油墨涂料、電子工業(yè)、新能源、納米新材料、醫(yī)藥、化妝品等領(lǐng)域?，F(xiàn)已形成從實(shí)驗(yàn)室型到工業(yè)級(jí)（處理量可達(dá)450L/h）的全套解決方案，為先進(jìn)電子制造提供精密分散保障。
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